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Ai 350HT型高温离子注入机

时间:2024-01-31 14:06:48 查看:0

Ai350HT型离子注入机采用成熟的光路单元技术。光路系统主要包括离子源、引出系统、质量分析器、磁透镜、加速管、静电扫描、平行透镜、靶室和片库等。配置高温加热靶台,金属Al离子源,全自动晶片传输系统。适用于SIC工艺线或常规硅基工艺线的离子注入工艺。

产品详情

一、产品简介

Ai 350HT型离子注入机采用成熟的光路单元技术。光路系统主要包括离子源、引出系统、质量分析器、磁透镜、加速管、静电扫描、平行透镜、靶室和片库等。配置高温加热靶台,金属Al离子源,全自动晶片传输系统。适用于SIC工艺线或常规硅基工艺线的离子注入工艺。

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设备尺寸:长6750X宽3200X高2890(mm)


二、主要技术指标


序号

指标名称

指标能内容

1

晶片尺寸

68英寸

2

注入能量范围(单价离子)

30-400 keV

3

注入元素

Al+Ar+N+P+B+

4

最大束流

Al+≥1500uA@≥300keV

B+≥1200uA@≥300keV

P+≥1500uA@≥300keV

N+≥1200uA@≥300keV

5

注入角度

0-45°

6

注入角度精度

 ≤0.2°

7

注入均匀性(片内、片间)

1σ≤0.5% @(6英寸、5E14、150keV) 

8

束流稳定度

10%/hour

9

剂量范围

5E111E16 ions/cm2

10

装片方式

全自动

11

注入最高温度

550℃

12

X射线泄露值

≤0.3μSv/h

13

扫描方式

水平静电扫描+垂直机械扫描

14

产能WPH

≥100片/小时

15

靶室真空

5E-7Torr

16

束线真空

5E-7Torr

17

离子源真空

5E-7torr



 三、主要特点

                                                                                      1.可视化、智能化控制软件,设备操作和故障处理简单明了,稳定性高;

                                                                                      2.金属Al源寿命长,≥150小时;

                                                                                      3.生产效率高,设备产能是同类型设备的1.5倍以上;

                                                                                      4.具有图形注入功能,一次性注入剂量可设置成环形状或四象限区域分布,可满足用户特定

                                                                                  工艺需求。例如,在一片晶圆的四个象限同时注入不同剂量,可以一次性实现四种工艺条件,

                                                                                  这样既可以节约客户的工艺开发成本,又能提高开发效率。

           imageimage

         图1 四象限注入                                              图2 环形注入


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