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Ai 250型常温离子注入机

时间:2024-03-20 11:45:48 查看:0

Ai250系列是应用于6/8寸硅基工艺线的中束流离子注入机,能量范围是30-250kev(单价离子)。Ai250采用成熟的光路单元技术。光路系统主要包括离子源、引出系统、质量分析器、磁透镜、加速管、静电扫描、平行透镜、靶室和片库等。配置静电靶台,长寿命离子源,全自动晶片传输系统。

产品详情

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主要技术指标

    

序号

指标名称

指标能内容

1

晶片尺寸

6~8英寸

2

注入能量范围(单价离子)

30-250 keV

3

注入元素

Ar+、N+、P+、B+

4

最大束流

         Ar+≥1300uA @≥220keV

          B+≥1000uA@≥220keV

          P+≥1300uA@≥220keV

          N+≥1000uA@≥220keV

5

          注入角度精度

 ≤0.2°

6

注入均匀性(片内、片间)

1σ≤0.5% @(6英寸、5E14、150keV) 

7

              剂量范围

5E111E16 ions/cm2

8

装片方式

全自动单片方式

9

真空值

<5E-7托

10

X射线泄露值

≤0.6μSv/h

11

扫描方式

水平静电扫描+垂直机械扫描

12

产能(WPH)

≥200片/小时


主要特点

                       1. 可视化、智能化控制软件,设备操作和故障处理简单明了,设备稳定性高;

                       2. 长寿命离子源500小时;

                       3. 具有二维束剖面量测功能,能精确测量Beam widthBeam High,有利于提高设备注入工艺效率

                       和注入剂量准确性和重复性;

                       4. 生产效率高,是同类型设备的1.5倍以上;

                       5. 具有图形注入功能,一次性注入剂量可设置成环形状或四象限区域分布,满

                       足用户特定工艺需求。例如,在一片晶圆的四个象限同时注入不同剂量,一次性实现四种工艺条件,

                       这样既可以节约客户的工艺开发成本,又能提高开发效率。




标签:离子注入机
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